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中国芯片制造新突破!中科院造出最强紫外超分辨光刻机

[来源:网易]  [2018/11/30]
经过近七年艰苦攻关,“超分辨光刻装备研制”项目通过验收,这意味着,中国有了“世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备”。

中国在芯片制造领域取得新突破!

经过近七年艰苦攻关,“超分辨光刻装备研制”项目通过验收。这意味着,现在中国有了“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。
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换句话说,中国科学家研制成功了一种非常强大的光刻机。
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光刻机,那可是芯片制造的核心装备。中国一直在芯片行业受制于人,在光刻机领域更是如此,时常遭遇国外掐脖子、禁售等种种制约。

对于这次的突破,验收专家组的意见是:

该光刻机在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过国外相关知识产权壁垒。
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消息一出,很多人都纷纷称赞,但大多数都是不明觉厉,当然也有人说是吹牛。这个消息背后,到底意味着什么呢?

这个突破亮点很多,其中最值得关注的有几个点,量子位简单总结如下:

光源:粗刀刻细线

这个国产的光刻机,采用365纳米波长光源,属于近紫外的范围。
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通常情况下,为了追求更小的纳米工艺,光刻机厂商的解决方案是,使用波长越来越短的光源。ASML就是这种思路。

现在国外使用最广泛的光刻机的光源为193纳米波长深紫外激光,光刻分辨力只有38纳米,约0.27倍曝光波长。

这台国产光刻机,可以做到22纳米。而且,“结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片”。

也就是说,中科院光电所研发的这台光刻机,用波长更长(近紫外)、成本更低(汞灯)的光源,实现了更高的光刻分辨力(0.06倍曝光波长)。
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项目副总设计师、中科院光电技术研究所研究员胡松在接受《中国科学报》采访时,打了一个比方:“这相当于我们用很粗的刀,刻出一条很细的线。”这就是所谓的突破分辨力衍射极限。
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